GGG晶体
GGG用于激光薄膜的专用衬底基片，在光通信设备组，需要大量使用1.3um及1.5um的光隔离器，其核心部件就是基于磁场中的YIG或BIG薄膜，不同切向的GGG单晶基片可以做到与这类慈光材料晶格的匹配，从而保证YIG,BIG薄膜成功的外延生长
应用领域
1.高功率激光器
基质材料：GGG单晶作为Nd³⁺、Yb³⁺等稀土离子的掺杂宿主，可制成高性能激光晶体（如Nd:GGG）。
优势：高损伤阈值、低热透镜效应，支持千瓦级激光输出，用于工业切割、医疗手术及国防领域。
2.磁光器件
基片应用：作为YIG（钇铁石榴石）薄膜的衬底，晶格匹配度高，用于光隔离器、磁泡存储器。
磁性制冷：在20K以下温区作为磁制冷材料，用于氦液化前级制冷。
3.探测器与闪烁体
CT探测器：高X射线吸收效率，替代传统闪烁体材料。
闪烁晶体：Ce³⁺掺杂GGG（Ce:GGG）具有高光产额（~14,000 Pho/MeV），用于核辐射探测。
4.微波与光通信
微波滤波器：低介电损耗（ε≈12）适用于高频器件。
光隔离器：利用磁光效应，实现1.3μm/1.5μm波长光信号的单向传输。
物理特性
|
晶体结构
|
立方
|
|
生长方法
|
提拉法
|
|
晶格常数
|
a=12.376Å,(Z=8)
|
|
熔点（℃）
|
1750
|
|
纯度
|
99.95%
|
|
密度（g/cm3）
|
7.09
|
|
硬度
|
6-7（mohs）
|
|
折射率
|
1.95
|
|
晶向
|
<111>±0.5º
|